反渗透设备优质供应商 10年专注标准化反渗透纯水设备定制厂家

随着信息时代的到来，作为电子工业的核心—超大规模集成电路有着巨大的市场需求。在集成电路生产的几百道工序中，其80%以上需高纯水清洗。水中的各种超微量杂质都会对产品产生重要影响。因此，VLSI和 ULSI对水质的要求成为高纯水水质的极至。电子工业中其他部门对纯水和超纯水均有着广泛的需求，如彩色显像管的生产等等。

超纯水水质已成为影响电子元器件产品质量、生产成品率及生产成本的重要因素之一。超纯水在电子工业主要是电子元器件生产中的重要作用日益突出。半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件、各种电子器件、微电子工业、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高，对水质的要求也越高。采用反渗透水处理设备与电去离子(EDI)设备，这是一种制取超纯水的首选工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺。

电子工业用超纯水的应用领域

1)半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路。

2)超纯材料和超纯化学试剂。

3)实验室和中试车间。

4)汽车、家电表面抛光处理。

5)光电产品。

6)其他高科技精微产品。

制备电子工业用超纯水的工艺流程

电子行业制备超纯水的工艺大致分成以下几种：

方案一：

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15 MΩ•cm)

方案二：

预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-二级反渗透-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17 MΩ•cm)

方案三：

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18 MΩ•cm)

在电子光学超纯水设备设计上，通常采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级RO+EDI+精混床除盐水处理工艺;或者是全膜法处理工艺：UF+二级RO+EDI+抛光混床。确保处理后出水电阻率达到18 MΩ•cm以上。