电子电镀超纯水设备

一、电子电镀超纯水 应用范围概述：

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗 电子管生产　电子管阴极涂敷碳酸盐配液 显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产　玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水 液晶显示器的生产　屏面需用纯水清洗和用纯水配液 晶体管生产中主要用于清洗硅片，另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等.

二、电子电镀超纯水 典型工艺流程

预处理系统-反渗透系统-中间水箱-粗混合床-精混合床-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-精密过滤器-用水对象 (≥18MΩ.CM)(传统工艺)

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯化水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-抛光混床-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥18MΩ.CM)(zui新工艺)

预处理-一级反渗透-加药机(PH调节)-中间水箱-第二级反渗透(正电荷反渗膜)-纯水箱-纯水泵-EDI装置-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥17MΩ.CM) (zui新工艺)

预处理-反渗透-中间水箱-水泵-EDI装置-纯水箱-纯水泵-紫外线杀菌器-0.2或0.5μm精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(zui新工艺)

处理系统-反渗透系统-中间水箱-纯水泵-粗混合床-精混合床-紫外线杀菌器-精密过滤器-用水对象(≥15MΩ.CM)(传统工艺)

三、电子电镀超纯水达到标准

纯化水标准，注射水标准 显像管、液晶显示器用纯水水质(经验数据)

集成电路用纯水水质

国家电子级纯水标准

美国SEMI标准

四、电子电镀超纯水设备特点

为满足用户需要，达到符合标准的水质，尽可能地减少各级的污染，延长设备的使用寿命、降低操作人员的维护工作量.在工艺设计上，取达国家自来水标准的水为源水，再设有介质过滤器，活性碳过滤器，钠离子软化器、精密过滤器等预处理系统、RO反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电除盐系统)系统等。 系统中水箱均设有液位控制系统、水泵均设有压力保护装置、在线水质检测控制仪表、电气采用PLC可编程控制器，真正做到了无人职守，同时在工艺选材上采用推荐和客户要求相统一的方法，使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。单晶硅半导体、集成电路芯片、显像管、计算机硬盘、玻壳、液晶显示器、光学玻璃清洗、汽车、家用电器、五金、塑料、饰品、建材产品表面涂装、、电池(蓄电池)生产;阳极、阴极电泳漆超滤回收及零排放系统等;化工反应冷却、电镀配液、化学药剂、精细化工制造过程用工艺纯水 采用世界上zui先进的美国反渗透元件，压力容器，高压泵设备，配以先进而又合理的预处理和后级处理备，生产出符合各行业生产标准的水。控制部份采用进口 PLC 控制，可实现自动起停，加药，及冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的存储和打印。